Was ist eine Fotomaske?

Eine Fotomaske ist eine undurchsichtige Platte, die in Lithographieprozessen verwendet wird. Öffnungen oder Löcher in der undurchsichtigen Oberfläche werden angeordnet, damit Licht durchscheinen kann, was das Muster von der Fotomaske auf ein anderes Material wie Papier überträgt. Fotomaschs treten häufig in der Herstellung von Halbleitern vor, bei denen sie Bilder und Anordnungen von integrierten Schaltungen genau auf eine Schaltplatte übertragen. Dieser Prozess ist als Photolithographie bekannt. Die moderne Technologie erfordert kleinere Komponenten, die Geräten wie sehr kleine Handcomputer und andere kleine Technologien ermöglichen. Ohne Photemäer oder Lithographie konnten die Anordnungen der Schaltkreise und Chips in diesen Geräten nicht genau übertragen werden. Aufgrund des einzigartigen deZeichenspezifikationen jedes Herstellers, Unternehmen, die Fotomaschs produzieren, müssen ein gründliches Verständnis des Designs haben. Einer der wichtigsten Teile der Herstellung von Fotomaschs ist die Maske selbst. In den meisten Fällen wird die Maske aufgrund ihrer genauen und niedrigen Fehlerrate aus einem hochwertigen Chrom hergestellt.

Fotomaschs spielen eine wesentliche Rolle bei der Herstellung von Halbleitern, was lithografische Verfahren erfordert. Moderne lithografische Werkzeuge, die mit Hochschulobjektiven ausgestattet sind, werden verwendet, um Licht durch die Fotomaske zu übertragen. Das von diesen Geräten projizierte Licht strahlt durch das Muster innerhalb des PhotoMaskes, das auf einen Siliziumwafer projiziert wird. Der Wafer wird mit einem Photoresist aufgetaucht, der ein lichtempfindliches Material ist. Anschließend wird ein negativer Photoresist verwendet, um den maskierten Teil des Materials zu entfernen; Um den Prozess umzukehren, wird ein positiver Photoresist verwendet.

Jede Schicht eines CHIP erfordert eine einzigartige Fotomaske. Die meisten Halbleiter haben mindestens 30 Schichten, was für jeden Halbleiter mindestens 30 einzigartige Fotomaschs für jeden Halbleiter benötigt. Fotomaschs sind jedoch weit mehr als nur eine Möglichkeit, ein Muster auf einen Chip zu verfolgen. Dies liegt daran, dass die Schaltungsanordnungen sehr präzise sind und ihre Muster so genau wie möglich übertragen werden müssen. Die Lithographie ermöglicht eine extrem genaue Designübertragung.

Fotomaschs helfen bei der Miniturisierung von Computerchips. Dies liegt daran, dass kleinere Chips sehr genaue Bilder ihrer allgemeinen Anordnung erfordern, was ohne einen lithografischen Prozess nahezu unmöglich ist. Ohne die Fotomaske wären kleine Handcomputer fast unmöglich, da ihre kleinen Schaltungen und Chips eine genaue Anordnung erfordern.