Wat is vacuümafzetting?
De term vacuümdepositie beschrijft een groep processen die bedoeld zijn om individuele deeltjes, met name atomen en moleculen, op een oppervlak te leggen. De processen worden uitgevoerd in een vacuüm om interferentie of reactie met gasdeeltjes zoals zuurstof te voorkomen, die zeer reactief kunnen zijn. Een zeer dunne laag van een stof die op een oppervlak wordt aangebracht, wordt een film genoemd, terwijl een dikkere laag een coating wordt genoemd. Vacuümafzetting kan veel verschillende doelen dienen, zoals het afzetten van geleidende lagen op oppervlakken of het beschermen van metalen tegen corrosie. Het proces wordt ook vaak gebruikt op verschillende auto-onderdelen voor verschillende doeleinden, zoals het voorkomen van roest en corrosie.
De meest gebruikte methoden voor vacuümafzetting omvatten het gebruik van damp. Soms wordt de substantie die op het oppervlak moet worden afgezet verdampt; het condenseert later als een laag op het oppervlak. In andere gevallen reageren de verdampte stof of stoffen met het oppervlak om de gewenste film of coating te vormen. In sommige gevallen moeten andere factoren zoals temperatuur of dampdichtheid worden gemanipuleerd om de gewenste resultaten te verkrijgen. Deze factoren kunnen de dikte en samenhang van de laag beïnvloeden, dus het is essentieel dat ze correct worden gereguleerd.
Fysieke dampafzetting is vacuümafzetting waarbij alleen fysische processen plaatsvinden; er zijn geen chemische reacties. Fysieke dampafzettingsmethoden worden hoofdzakelijk gebruikt om oppervlakken met dunne films te bedekken; verdampte stoffen worden op het oppervlak gecondenseerd. Een dergelijke methode wordt de fysische dampafzetting met elektronenstralen genoemd. Bij fysische dampafzetting met elektronenstralen wordt het af te zetten materiaal verwarmd en verdampt met een elektronenstraal voordat het op het oppervlak van afzetting condenseert. Een andere gebruikelijke methode voor fysische vacuümafzetting is sputterafzetting, waarbij gas of damp uit een bepaalde bron wordt uitgestoten en op het te coaten oppervlak wordt gericht.
Chemische dampafzetting is een vorm van vacuümafzetting waarbij chemische processen worden gebruikt om de gewenste film of coating te produceren. Gassen of dampen reageren met het oppervlak dat ze in een vacuüm moeten coaten. Veel verschillende chemicaliën, zoals siliciumnitride of polysilicium, worden gebruikt in verschillende chemische opdampingsprocessen.
Het vacuüm is een essentieel onderdeel van vacuümafzetting; het vervult verschillende belangrijke rollen. De aanwezigheid van een vacuüm resulteert in een lage dichtheid van ongewenste deeltjes, zodat de deeltjes die bedoeld zijn om het oppervlak te coaten niet reageren of botsen met verontreinigende deeltjes. Het vacuüm stelt wetenschappers ook in staat om de vacuümsamenstelling van de vacuümkamer te regelen, zodat een coating van de juiste grootte en consistentie kan worden geproduceerd.