¿Qué es una fotomask?
Una fotomáscara es una placa opaca utilizada en procesos de litografía. Las aberturas o agujeros en la superficie opaca están dispuestos para permitir que la luz brille, lo que transfiere el patrón de la fotomáscara a otro material, como el papel. Las fotomascaras se encuentran comúnmente en la fabricación de semiconductores, donde transfieren con precisión imágenes y arreglos de circuitos integrados a una placa de circuito. Este proceso se conoce como fotolitografía.
Las fotomascaras juegan un papel extremadamente importante en el desarrollo de tecnología avanzada en nuestra sociedad. La tecnología moderna exige componentes más pequeños, que permiten la existencia de dispositivos como computadoras portátiles muy pequeñas y otras tecnologías a pequeña escala. Sin máscaras fotográficas o litografía, las disposiciones de los circuitos y chips dentro de estos dispositivos no podrían transmitirse con precisión.
El diseño de una fotomáscara está determinado por los fabricantes de chips, cuyos detalles exactos se describen a través de una amplia variedad de idiomas y medios. Debido a las especificaciones de diseño únicas de cada fabricante, las compañías que producen fotomascaras deben tener un conocimiento profundo del diseño. Una de las partes más importantes de la producción de fotomascaras es la máscara en sí. En la mayoría de los casos, la máscara está hecha de un cromo de alta calidad, debido a su precisión y baja tasa de fallas.
Las fotomascaras juegan un papel esencial en la producción de semiconductores, lo que requiere procedimientos litográficos. Las herramientas litográficas modernas equipadas con lentes de alta apertura se utilizan para transmitir luz a través de la fotomáscara. La luz proyectada desde estos dispositivos brilla a través del patrón dentro de la fotomáscara, que se proyecta sobre una oblea de silicio. La oblea se recubre con un material fotorresistente, que es un material sensible a la luz. Luego se emplea una fotorresistencia negativa para eliminar la parte enmascarada del material; Para revertir el proceso, se utiliza una fotorresistencia positiva.
Cada capa de un chip requiere una fotomáscara única. La mayoría de los semiconductores tienen al menos 30 capas, lo que resulta en la necesidad de al menos 30 fotomascaras únicas para cada semiconductor. Sin embargo, las fotomascaras son mucho más que una forma de trazar un patrón en un chip. Esto se debe a que las disposiciones del circuito son muy precisas y sus patrones deben transmitirse con la mayor precisión posible. La litografía permite una transmisión de diseño extremadamente precisa.
Photomasks ayuda con la miniturización de chips de computadora. Esto se debe a que los chips más pequeños requieren imágenes de alta precisión de su disposición general, lo cual es casi imposible sin un proceso litográfico. Sin la fotomáscara, las pequeñas computadoras portátiles serían casi imposibles, ya que sus pequeños circuitos y chips requieren una disposición precisa.