硫酸と過酸化水素の間の関係は何ですか？

硫酸と過酸化水素は、工業的および実験室で最も広く使用されている化学物質の1つです。それらはいくつかの方法で接続されています。過酸化水素の2つの製造方法には、硫酸の使用が含まれますが、これらは大部分が置き換えられています。多くの学校のカリキュラムの一部であるいくつかのよく知られた実験室の実験とデモンストレーションには、これら2つの化合物が必要です。さらに、硫酸と過酸化水素の混合は、半導体、紙、鉱業産業でさまざまな用途を伴う非常に腐食性の溶液を生成します。この反応によっても形成される塩化バリウムは、硫酸を添加することにより除去されました。それらは反応して、硫酸バリウムの不溶性沈殿物を生成します。その後の方法では、硫酸の電気分解によって生成されるペルオキシジスルフル酸の加水分解が含まれていました。しかし、今日では、ほぼすべての水素ペルオックスですIDEは、硫酸を伴わないより経済的な手順であるAnthraquinoneプロセスによって行われます。

硫酸と過酸化水素の反応は、ペルオキシマノスルフル酸の水溶液を生成します（H ₂ so ₅ ）：h ₂ so so so h ₂ o。これは、腐食性のために「Piranha溶液」としても知られています。ほとんどの有機材料を急速に破壊します。それの別の名前は、最初に酸を生産したドイツの化学者ハインリッヒ・カロの後のカロの酸です。純粋なペルオキシムノスルフル酸 - 室温で結晶固体 - は別の方法で調製されますが、酸は一般に水溶液として使用されます。ピラニア溶液は通常、濃縮硫酸と30％の過酸化水素から調製されます。比率は使用によって異なる場合がありますが、の3：1の比率はsulfuric acid to hydrogen peroxide is a common formulation.

この酸には多くの用途がありますが、非常に慎重に準備して処理する必要があります。これは強力な酸化剤であり、有機残基を除去するのに特に役立ちます。このため、ガラス製品やその他の実験装置の掃除に使用されることがあります。カロの酸は、半導体産業でもエッチャントとして広く使用されており、シリコンウェーハやその他の繊細な電子部品に有機汚染物質がないことを保証するために使用されています。その他の用途は、金属と鉱石を分離し、廃水から毒性シアン化合物を分解するための鉱業であり、製紙産業では、木材パルプの剥離と漂白のためのものです。

硫酸は、過酸化水素と二酸化硫黄の反応によって生成できます：H ₂ o ₂ + so ₂ →h ₂ so ₄ 。この方法は商業的に使用されません。ただし、反応が発生する可能性があります硫酸と過酸化水素の両方が少量で見られる大気中では、酸性雨に寄与しています。過酸化水素は、光化学反応を通じて自然に形成される可能性があります。二酸化硫黄は、硫黄含有化石燃料の燃焼によって生成され、自然に火山活動によって生成されます。二酸化硫黄からの酸性雨の形成には過酸化水素は必要ありませんが、過酸化物反応ははるかに速いです。