O que é um implante de íons?
A implantação de Íon tem aplicações em várias indústrias diferentes, principalmente na criação de semicondutores. Um implante de íons é um íon de um elemento específico, colocado em seu material circundante com o objetivo de alterar as propriedades elétricas ou superficiais do material. Alguns elementos comuns que podem ser usados no implante de íons são fósforo, arsênico, boro e nitrogênio. Uma máquina chamada A separador de massa é usada para implantar íons em seu material de destino, que é chamado de "substrato" para fins científicos. Em uma configuração típica, os íons são produzidos em um ponto de origem e depois acelerados em direção a um ímã de separação, que se concentra efetivamente e aponta os íons em direção ao seu destino. Os íons consistem em átomos ou moléculas com vários elétrons que são mais altos ou inferiores ao habitual, tornando -os mais ativos quimicamente.
Ao atingir o submarinoStrate, esses íons colidem com átomos e moléculas antes de parar. Tais colisões podem envolver o núcleo do átomo ou um elétron. Os danos causados por essas colisões alteram as propriedades elétricas do substrato. Em muitos casos, o implante de íons afeta a capacidade do substrato de conduzir eletricidade.
Uma técnica chamada doping é o objetivo principal de usar um implante de íons. Isso geralmente é feito na produção de circuitos integrados e, de fato, circuitos modernos como os dos computadores não puderam ser feitos com implantação de íons. O doping é basicamente outro nome para implante de íons que se aplica especificamente à fabricação de circuitos.
Doping exige que os íons sejam produzidos a partir de um gás muito puro, que às vezes pode ser perigoso. Por esse motivo, existem muitos protocolos de segurança que regem o processo de doping de bolachas de silício. Partículas do gás são ACCElertado e dirigido em direção ao substrato de silício em um separador de massa automatizado. A automação reduz os problemas de segurança e vários circuitos por minuto podem ser dopados dessa maneira.
O implanteíon também pode ser usado na fabricação de ferramentas de aço. O objetivo de um implante de íons neste caso é alterar as propriedades da superfície do aço e torná -lo mais resistente a rachaduras. Essa mudança é causada por uma ligeira compressão da superfície devido à implantação. A mudança química provocada pelo implante de íons também pode se proteger contra a corrosão. Essa mesma técnica é usada para projetar dispositivos protéticos, como articulações artificiais, dando -lhes propriedades semelhantes.