O que é um alvo giratório?
Um alvo de pulverização é um material usado para criar filmes finos em uma técnica conhecida como deposição de pulverização ou deposição de filmes finos. Durante esse processo, o material alvo da pulverização, que começa como sólido, é dividido por íons gasosos em pequenas partículas que formam um spray e revestem outro material, conhecido como substrato. A deposição de pulverização é comumente envolvida na criação de semicondutores e chips de computador. Como resultado, a maioria dos materiais alvo de cuspidação são elementos ou ligas metálicas, embora existam alguns alvos de cerâmica disponíveis que criam revestimentos finos endurecidos para várias ferramentas. Os menores alvos podem ter menos de uma polegada (2,5 cm) de diâmetro, enquanto os maiores alvos retangulares atingem bem mais de um metro (0,9 m) de comprimento. Alguns equipamentos de pulverização exigirão um alvo maior de pulverização e, nesses casos, os fabricantes criarãoalvos segmentados que estão conectados por juntas especiais.
Os projetos dos sistemas de pulverização, as máquinas que conduzem o processo de deposição de filmes finos, tornaram -se muito mais variados e específicos. Consequentemente, a forma e a estrutura do alvo também começaram a aumentar em variedade. A forma de um alvo de pulverização é geralmente retangular ou circular, mas muitos fornecedores de destino podem criar formas especiais adicionais mediante solicitação. Certos sistemas de pulverização exigem um alvo rotativo para fornecer um filme mais preciso e até fino. Esses alvos são moldados como cilindros longos e oferecem benefícios adicionais, incluindo velocidades mais rápidas de deposição, menos danos causados pelo calor e aumento da área de superfície, o que leva a uma maior utilidade geral.
A eficácia dos materiais alvo de pulverização depende de vários fatores, incluindo sua composição e o tipo de íons usados para quebrá -los. Filmes finos que exigemOs metais puros para o material alvo geralmente terão mais integridade estrutural se o alvo for o mais puro possível. Os íons usados para bombardear o alvo de pulverização também são importantes para produzir um filme fino de qualidade decente. Geralmente, o argônio é o gás primário escolhido para ionizar e iniciar o processo de pulverização, mas para alvos que possuem moléculas mais claras ou mais pesadas, um gás nobre diferente, como neon para moléculas mais claras, ou krypton para moléculas mais pesadas, é mais eficaz. É importante que o peso atômico dos íons gasosos seja semelhante ao das moléculas de alvo de pulverização para otimizar a transferência de energia e momento, otimizando assim a uniformidade do filme fino.