O que é deposição a vácuo?
O termo deposição a vácuo descreve um grupo de processos que se destinam a depositar partículas individuais, especificamente átomos e moléculas, em uma superfície. Os processos são conduzidos no vácuo para evitar qualquer interferência ou reação com partículas de gás, como oxigênio, que podem ser altamente reativas. Uma camada muito fina de uma substância aplicada a uma superfície é chamada de filme, enquanto uma camada mais espessa é chamada de revestimento. A deposição a vácuo pode servir a muitos propósitos diferentes, como depositar camadas condutoras em superfícies ou proteger metais da corrosão. O processo também é frequentemente usado em várias peças automotivas para diversos fins, como prevenção de ferrugem e corrosão.
Os métodos mais comuns de deposição a vácuo envolvem o uso de vapor. Às vezes, a substância a ser depositada na superfície é vaporizada; mais tarde condensa como uma camada na superfície. Em outros casos, a substância ou substâncias vaporizadas reagem com a superfície para formar o filme ou revestimento desejado. Em alguns casos, outros fatores como temperatura ou densidade de vapor devem ser manipulados para obter os resultados desejados. Esses fatores podem influenciar a espessura e a coesão da camada, por isso é essencial que sejam regulados corretamente.
A deposição física de vapor é a deposição a vácuo, na qual ocorrem apenas processos físicos; não há reações químicas. Os métodos físicos de deposição de vapor são usados principalmente para cobrir superfícies com filmes finos; substâncias vaporizadas são condensadas na superfície. Um desses métodos é chamado de deposição física de vapor de feixe de elétrons. Na deposição física de vapor por feixe de elétrons, o material a ser depositado é aquecido e vaporizado com um feixe de elétrons antes de condensa-se na superfície de deposição. Outro método comum de deposição de vácuo físico é a deposição por pulverização, em que gás ou vapor é ejetado de alguma fonte e direcionado à superfície a ser revestida.
A deposição química de vapor é uma forma de deposição a vácuo, na qual processos químicos são usados para produzir o filme ou revestimento desejado. Gases ou vapores reagem com a superfície que se destinam a revestir no vácuo. Muitos produtos químicos diferentes, como nitreto de silício ou polissilício, são usados em diferentes processos de deposição de vapores químicos.
O vácuo é uma parte essencial da deposição a vácuo; serve vários papéis importantes. A presença de vácuo resulta em uma baixa densidade de partículas indesejáveis, de modo que as partículas que se destinam a revestir a superfície não reagem ou colidem com quaisquer partículas contaminantes. O vácuo também permite que os cientistas controlem a composição do vácuo da câmara de vácuo, para que um revestimento do tamanho e consistência adequados possa ser produzido.