O que é a gravação reativa de íons?

A gravação reativa de íons é um tipo de tecnologia usada na microfabricação para remover substâncias das bolachas. As bolachas são pequenas tiras de semicondutores usadas na criação de microdispositivos, e a tecnologia de gravação de íons reativos garante que elas permaneçam livres de materiais que possam afetar negativamente sua eficácia. Os procedimentos de microfabricação são realizados com dispositivos especialmente projetados que identificam a substância a ser removida sem sacrificar a integridade da bolacha.

O dispositivo de ataque por íons reativos mais comum é constituído por um compartimento de vácuo em forma de cilindro com um suporte isolado para a bolacha presa à parte inferior da câmara. Existem pequenos orifícios no topo da embarcação que deixam entrar gás. Vários tipos de gases são usados, dependendo dos requisitos individuais de uma bolacha específica.

O plasma indutivamente acoplado é outro modo dessa tecnologia. Com este dispositivo, o plasma é criado por um campo magnético altamente especializado. Não é incomum atingir altos níveis de concentração plasmática com este método.

O plasma de gravação por íons reativos é um estado da matéria que é quimicamente reativo e é criado pelo campo eletromagnético de radiofrequência (RF) mais padrão. Os íons no plasma têm uma quantidade incomumente alta de energia. Esses íons reagem aos detritos em uma bolacha e trabalham para remover os defeitos em sua superfície.

O processo químico envolvido na gravação de íons reativos é multifacetado. Primeiro, um campo eletromagnético substancial é enviado para a câmara de wafer. O campo então oscila, o que ioniza as moléculas de gás no vaso e remove seus elétrons. Isso resulta na criação do plasma.

A gravação de íons reativos é um tipo de uma categoria mais ampla de remoção de microfabricação chamada gravação a seco. Ele não usa líquidos no processo de remoção, ao contrário do ataque úmido, que usa vários ácidos e produtos químicos para atingir o mesmo fim. Como o ataque húmido causa uma subcotação na bolacha, bem como quantidades significativas de resíduos tóxicos, a gravação a seco está se tornando um método mais popular de remoção de produtos químicos da bolacha.

Uma das principais desvantagens da gravação de íons reativos é o custo. Comparado às técnicas de gravação a úmido, é muito mais caro devido ao equipamento especializado necessário. Os processos de gravação a seco, em geral, são muito mais eficazes para alcançar áreas mais difíceis de uma bolacha. É importante lembrar, no entanto, que alguns trabalhos não exigem os mínimos detalhes fornecidos por esta forma de gravação, e os procedimentos de gravação úmida podem realizar a tarefa com a mesma eficácia.